WO3是一種重要的無毒的且禁帶寬度窄（2.4-2.8eV）的半導體材料，可作為催化劑應用於光催化反應中對污水中的有機物進行催化降解，因而WO3-ZnO複合薄膜的製備已成為當前的一大研究熱點，而且，其光催化性能備受關注。
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有專家採用溶膠-凝膠法在鋁箔上製備WO3-ZnO複合薄膜，並用活性炭對其改性，以甲基橙水溶液模擬有機污染物，研究了WO3-ZnO薄膜的光催化降解性能。結果表明：白熾燈照射2h、WO3品質分數(shù)為2.5%時，WO3-ZnO-鋁箔對甲基橙的降解率達到78.54%；紫外光照射下降解率達到99.89%。當活性炭摻雜量為10g/L時，制得的WO3-ZnO複合薄膜均勻一致且光催化性能良好，可見光照射下甲基橙降解率達到85.71%。
