據(jù)專業(yè)人員介紹，氧化鎢靶材在氬氧比為4:1的氣氛及20mtorr下能製備出具有高變色效率的氧化鎢薄膜，薄膜的沉積速度為9.6nm/min。上述工作在薄膜磁控濺射過程中雖然用到少量的氧氣，但是要使微量氣體均勻分佈在腔室中，需要鍍膜設(shè)備額外增加一些新的部件來確保氣體流入的均勻性，不過這樣會(huì)增加投資成本。因此，為了克服這個(gè)問題，本文將介紹氧化鎢薄膜的新製備方法。
—種納米氧化鎢薄膜的新合成方法，包括前驅(qū)液製備、基底鍍膜、高溫?zé)彑?/p>
前驅(qū)液配製：將適量的水溶性多聚鎢酸鹽溶解于去離子水中，再加入一定量的分散劑和改性劑，在磁力攪拌器持續(xù)攪拌後恒溫靜置，得到前驅(qū)液。分散劑的作用是構(gòu)成大量的網(wǎng)狀交織結(jié)構(gòu)，在乾燥、高溫成晶過程中不易產(chǎn)生裂縫；改性劑的作用提高前驅(qū)液的穩(wěn)定性，另外在高溫條件薄膜生長(zhǎng)的過程中，能防止三氧化鎢顆粒團(tuán)聚，導(dǎo)致薄膜脫落。
鍍膜方法：採用浸漬提拉法或旋塗法在待塗敷的基底上鍍膜，並在一定溫度條件下幹化；待鍍膜的基底應(yīng)先進(jìn)行清洗等預(yù)處理。基底材質(zhì)為鋁、不銹鋼、玻璃、石墨、矽片 的其中一種。
焙燒方法：基底鍍膜乾燥後，放置於可程式控溫的馬弗爐高溫焙燒，升溫速率5°C /min，焙燒溫度350-600°C，熱處理2-5h，就可得到三氧化鎢薄膜。
該生產(chǎn)方法的優(yōu)勢(shì)：（1）生產(chǎn)成本較低，工藝流程簡(jiǎn)單；（2）產(chǎn)品穩(wěn)定性好，光催化活性和光電轉(zhuǎn)化性能優(yōu)越。
