為了有效提升新型調(diào)光器件的綜合性能，有研究者表示可以使用WO3薄膜來(lái)代替TiO2薄膜，這主要是源於三氧化鎢薄膜具有更為優(yōu)秀的半導(dǎo)體效應(yīng)、更好的光電轉(zhuǎn)換性能和聲致變色性能等特點(diǎn)。下面，我們一起來(lái)瞭解一下氧化鎢薄膜的生產(chǎn)方法。
目前，氧化鎢薄膜的製備方法常見(jiàn)的有溶膠-凝膠法、蒸發(fā)法、濺射法、離子輔助沉積法等。值得注意的是，反應(yīng)磁控濺射法具有基片溫升低、沉積速率適中、膜層均勻性及附著力好、膜厚工藝參數(shù)易控制等優(yōu)點(diǎn)。
反應(yīng)磁控濺射方法生產(chǎn)薄膜的具體步驟如下：
（1）選取純度99.95%的金屬鎢靶，靶徑65mm，濺射工作氣體為氬氣和氧氣的混合氣體，氧氬比1:1，工作氣壓1.0Pa，濺射功率5 w/cm2，基片和鎢靶的距離7cm，濺射時(shí)間60 min，膜厚約為300 nm。
（2）基片分為普通玻璃和沉積有方阻為ITO 薄膜的玻璃，用洗滌劑去油後，依次用去離子水、丙酮、無(wú)水乙醇進(jìn)行超聲清洗10 min，然後用乾燥的氮?dú)鈱⒒砻娲祹帧?/p>
（3）室溫條件下沉積的WO3薄膜樣品在大氣氛圍中進(jìn)行不同溫度的退火處理，升溫速率為100℃/h，恒溫處理時(shí)間為2 h，自然冷卻，即可得到產(chǎn)物。
用普通玻璃為基片的薄膜進(jìn)行X射線衍射和AFM 形貌檢測(cè)，用ITO 玻璃為基片的薄膜進(jìn)行紫外- 可見(jiàn)光透過(guò)率和迴圈伏安曲線檢測(cè)。結(jié)果表明，室溫條件下沉積的原始態(tài)薄膜，及退火溫度200℃以下內(nèi)的薄膜，基本保持著非晶結(jié)構(gòu)，具有良好的Li+ 致色性能，薄膜的透光調(diào)控能力達(dá)到61.42%；隨著退火溫度的升高，薄膜開(kāi)始晶化，Li+ 致色性能急劇下降。
