三氧化鎢(WO3)靶材是由三氧化鎢製造的一種陶瓷靶材。三氧化鎢是一種n型寬禁帶半導(dǎo)體材料,具有良好的可見光回應(yīng)、優(yōu)良的抗腐蝕性、較好的光生電子傳輸性能等獨(dú)特性能。
靶材,也可以稱為鍍膜靶材,是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。靶材根據(jù)材質(zhì)主要分為三類:金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材。
三氧化鎢陶瓷靶材的生產(chǎn)工藝與傳統(tǒng)陶瓷的生產(chǎn)工藝大致相同,常見是以氧化物為主要成分的燒結(jié)體材料。需要注意的是,原料好壞會(huì)影響三氧化鎢靶材的最終性能,中鎢線上科技有限公司一直致力於專業(yè)提供高品質(zhì)三氧化鎢靶材原料,如果您有任何相關(guān)的問(wèn)題或購(gòu)買意向,歡迎訪問(wèn)h5.chinatungsten.com,或者致信[email protected],隨時(shí)聯(lián)繫我們。
隨著航空、航太、郵電、鐵路、汽車和家用電器等領(lǐng)域的積體電路快速發(fā)展,各種電子元器件的驅(qū)動(dòng)電壓及耐壓值逐漸下降,低壓微電子領(lǐng)域的壓敏材料傳統(tǒng)的ZnO陶瓷壓敏因其電壓較高和介電常數(shù)較低而限制了其在低壓微電子領(lǐng)域的應(yīng)用。1994年,有國(guó)外學(xué)者首先報(bào)導(dǎo)了WO3陶瓷的非線性(壓敏行為),並指出由於WO3陶瓷具有非常低的壓敏電壓,可作為低壓微電子領(lǐng)域的壓敏材料使用。
除此之外,WO3靶材也是生產(chǎn)WO3薄膜的中間產(chǎn)品,有關(guān)WO3薄膜的生產(chǎn)介紹在其他文章之中有詳細(xì)介紹,歡迎繼續(xù)閱讀。