鎢鈦合金薄膜是由鎢元素和鈦元素組成的材料，具有良好的導電性和耐腐蝕性，可用作超大規(guī)模集成電路薄膜工藝中的濺射靶。
一種鎢鈦合金薄膜光刻工藝的步驟如下：
一、將覆蓋有合金薄膜的硅片襯底基片（簡稱“基片”）使用丙酮，異丙醇與去離子水清洗，吹干。
二、使用勻膠機將液態(tài)正光刻膠旋涂在待刻蝕的基片上，通過調(diào)節(jié)勻膠機轉(zhuǎn)速以控制光刻膠達到特定厚度；將涂膠完成的基片在熱板上加熱固化膠層，待膠充分冷卻后在對準曝光機上使用掩膜進行紫外線曝光；然后將曝光后的基片在顯影液中完全顯影，將顯影后的基片在熱板上加熱，使膠層完全固化；勻膠與曝光過程在黃光區(qū)完成。
三、將熱固化膠層的基片在有空氣循環(huán)過濾設備的通風櫥中冷卻，確保膠層中的溶劑充分揮發(fā)，冷卻過程在黃光區(qū)完成。
四、通過溫度控制，將30%雙氧水刻蝕液溫度維持在20℃，將冷卻完成的基片放入刻蝕液開始刻蝕；在20℃下雙氧水對光刻膠膜的刻蝕作用被大大減緩，根據(jù)實驗可知其刻蝕時間遠大于鎢鈦合金薄膜需要的刻蝕時間。因此該反應可以在不破壞光刻膠賦形層的前提下實現(xiàn)合金薄膜的高精度刻蝕，而僅需要一步光刻。
五、將刻蝕完成的基片使用丙酮與異丙醇洗掉光刻膠，完成工藝。
該生產(chǎn)工藝實現(xiàn)高精度的合金薄膜光刻，提高產(chǎn)品的適用范圍，消除了傳統(tǒng)合金光刻中的鋁賦形層引入的精度誤差與工藝復雜性，改善了光刻精度與可靠性。
