三氧化鎢（WO3）靶材是由三氧化鎢制造的一種陶瓷靶材。三氧化鎢是一種n型寬禁帶半導體材料，具有良好的可見光響應、優(yōu)良的抗腐蝕性、較好的光生電子傳輸性能等獨特性能。
靶材，也可以稱為鍍膜靶材，是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。靶材根據(jù)材質主要分為三類：金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材。
三氧化鎢陶瓷靶材的生產(chǎn)工藝與傳統(tǒng)陶瓷的生產(chǎn)工藝大致相同，常見是以氧化物為主要成分的燒結體材料。需要注意的是，原料好壞會影響三氧化鎢靶材的最終性能，中鎢在線科技有限公司一直致力于專業(yè)提供高品質三氧化鎢靶材原料，如果您有任何相關的問題或購買意向，歡迎訪問h5.chinatungsten.com，或者致信[email protected]，隨時聯(lián)系我們。
隨著航空、航天、郵電、鐵路、汽車和家用電器等領域的集成電路快速發(fā)展，各種電子元器件的驅動電壓及耐壓值逐漸下降，低壓微電子領域的壓敏材料傳統(tǒng)的ZnO陶瓷壓敏因其電壓較高和介電常數(shù)較低而限制了其在低壓微電子領域的應用。1994年，有國外學者首先報道了WO3陶瓷的非線性（壓敏行為），并指出由于WO3陶瓷具有非常低的壓敏電壓，可作為低壓微電子領域的壓敏材料使用。
三氧化鎢圖片
除此之外，WO3靶材也是生產(chǎn)WO3薄膜的中間產(chǎn)品，有關WO3薄膜的生產(chǎn)介紹在其他文章之中有詳細介紹，歡迎繼續(xù)閱讀。
