ナノセシウムタングステン青銅、すなわちナノCsxWO3は、良好な近赤外遮蔽性能を持っているので、オフィスの斷熱膜を製造するために使用することができ、そして得られた透明斷熱膜の斷熱性能が良い。低溫水熱條件下でクエン酸を反応溶媒として、異なるセシウム含有量のCsxWO3（x=0.1、0.2、0.3）粉體を調(diào)製し、ポリビニルアルコール（PVA）を成膜剤として、ガラス表面にロールコーティング法でCsxWO3薄膜を調(diào)製した専門家がいる。
詳細(xì)については、次のページを參照してください。
http://cesium-tungsten-bronze.com/japanese/index.html
専門家たちは異なるセシウム含有量のCsxWO3薄膜の近赤外遮蔽性能と斷熱性能を研究した。その結(jié)果、セシウムタングステン青銅薄膜の近赤外遮蔽性能と斷熱効果はCsxWO3中のセシウム含有量の増加に伴い増強(qiáng)されることが明らかになった。その中で、Cs0.3WO3薄膜の近赤外遮蔽性能が最も良く、斷熱性能が最も良く、空白ガラスと比べて、斷熱溫度差は13.5℃に達(dá)することができる。
