単分散酸化タングステンナノロッドは、溶媒熱法により調(diào)製し、次いでエレクトロクロミック膜を調(diào)製するために使用することができる。一部の専門家は溶媒熱法を用いて単分散酸化タングステンナノロッドを合成した。前駆體中のオレイルアミンの濃度を調(diào)節(jié)することにより、ナノロッドの粒度を制御する。WO3ナノロッドの結(jié)晶粒徑は38nm×3.2nmから89nm×4.5nmに増加した。専門家らはまた、一定溫度でWO3ナノロッドを熱処理してエレクトロクロミック薄膜を得ている。
詳細(xì)については、次のサイトを參照してください。
http://www.tungsten-powder.com/japanese/tungsten-oxide.html
彼らはWO3ナノロッドエレクトロクロミック膜の応答時(shí)間と光変調(diào)振幅が寸法的に相関していることを発見した。より小さなサイズのナノロッドからなるWO3膜は、より速い応答時(shí)間を有する。ナノメートルサイズを制御することにより、エレクトロクロミック応答時(shí)間を5倍以內(nèi)に調(diào)整することができる。より大きなサイズのナノロッドからなるWO3膜は、より高い光変調(diào)振幅を有する。膜厚130nmの場合、WO3ナノロッド膜の633nmにおける最適な光変調(diào)振幅は49%であった。すべての試料は良好な循環(huán)安定性と可逆性を示し、寸法差が循環(huán)安定性に與える影響は小さい。
