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大面積エレクトロクロミック素子へのナノ三酸化タングステンの応用

ナノ三酸化タングステンは、大面積エレクトロクロミックデバイスを製造するために使用することができる。三酸化タングステンナノロッドからなるエレクトロクロミック薄膜を用いて大面積エレクトロクロミック素子を組み立てることができることが報(bào)告されている。ご存知かもしれないが、ナノロッドは典型的な1次元ナノ構(gòu)造のナノ材料である。近年、一次元材料は斬新で優(yōu)れた性能を持つことで広く注目されている。

大面積エレクトロクロミック素子へのナノ三酸化タングステンの応用

詳細(xì)については、次のサイトを參照してください。

http://www.tungsten-powder.com/japanese/tungsten-oxide.html

大面積エレクトロクロミック素子へのナノ三酸化タングステンの応用

コロイドを用いて単分散三酸化タングステンナノロッドを化學(xué)合成する方法を報(bào)告した。コロイド化學(xué)では、界面活性剤の濃度を変えることでナノ材料の形態(tài)を良好に調(diào)整することができる。薄膜を構(gòu)成する三酸化タングステンナノロッドの粒子サイズの変化と三酸化タングステン薄膜の構(gòu)造調(diào)整に伴い、そのエレクトロクロミック性能もそれに応じて影響を受けるため、組み立てた大面積エレクトロクロミック素子のエレクトロクロミック特性もWO3ナノロッドサイズとWO3薄膜構(gòu)造調(diào)整の影響を受けることができる。

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