黃色酸化タングステン薄膜は現(xiàn)在の無(wú)機(jī)エレクトロクロミック材料の研究の重點(diǎn)であり、省エネ建築に応用されるエレクトロクロミック裝置の生産に用いることができる。これは、WO3薄膜は製造プロセスが簡(jiǎn)単で、耐放射性が強(qiáng)く、化學(xué)安定性がよく、基材への付著力が強(qiáng)いなどの利點(diǎn)があるからである。また、全固體デバイスを容易に作成できます。酸化タングステン薄膜はエレクトロクロミック素子において極めて重要な役割を果たしている。では、どのような方法で三酸化タングステンエレクトロクロミック薄膜を製造することができますか？
詳細(xì)については、
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
電気泳動(dòng)堆積法専門(mén)家によると、電気化學(xué)堆積によって製造されたWO3エレクトロクロミック薄膜は設(shè)備が簡(jiǎn)単で、コストが低く、応答速度が速く、著色効率が高いなどの利點(diǎn)がある。また、アクティブ化する必要はありません。しかし、避けられない欠點(diǎn)もある。すなわち、得られたフィルムは基材への接著性が弱い。そしてそれは失敗しやすい。そのため、フィルムは空気中で自然乾燥するとエレクトロクロミック性能を失いやすい。では、電気泳動(dòng)堆積とは何ですか。電気泳動(dòng)堆積法は、電解質(zhì)を電解して作用電極の表面にターゲット膜を生成する方法である。電気化學(xué)プロセス中、めっきされるべきイオンは、電界の作用下で対応する電極の基板上に堆積される。
