酸化タングステン薄膜はエレクトロクロミック素子構(gòu)造において最も重要な層である。このうち、WO 3薄膜、エレクトロクロミック層またはクロミック層はデバイス全體の性能に決定的な役割を果たしている。得られた酸化タングステンエレクトロクロミック素子のエレクトロクロミック層のWO3薄膜は、電場により色及び光學特性が変化することができる。
詳細については、
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
専門家によると、エレクトロクロミック素子は多層電気化學素子を持つサンドイッチに似た構(gòu)造をした電気化學電池と見なすことができ、各層はフィルムの形をしている。エレクトロクロミック素子の構(gòu)造は通常、研究者に典型的な5層構(gòu)造と考えられている。上から下に、透明導(dǎo)電層、エレクトロクロミック層、イオン導(dǎo)體層(電解質(zhì)層)、イオンメモリ層(対極層)、透明導(dǎo)電層がある。