六角セシウムタングステン青銅は近赤外遮蔽材料として、建築物や自動(dòng)車(chē)ガラスの斷熱膜や斷熱コーティングの製造に広く用いられている。専門(mén)家によると、プラズマとポーラロン機(jī)構(gòu)が主な原因とされているが、セシウムタングステン青銅中の低エネルギー光吸収のメカニズムにはまだ議論があるという。そこで、六角セシウムタングステン青銅ナノ粒子を研究し、酸素空格子點(diǎn)（VO）とアルカリ含有量の変化時(shí)の構(gòu)造と光學(xué)的変化を理解するための系統(tǒng)的な分析結(jié)果を見(jiàn)つけた。
詳細(xì)については、
http://cesium-tungsten-bronze.com/japanese/index.html
還元ガス流下で合成したセシウムタングステン青銅試料の化學(xué)分析により、その正確な成分はCsxWO 3-yと記述されていることが明らかになった。Cs＋とVOの増加に伴い、XRD Rietveld法で測(cè)定した格子定數(shù)は線形に変化し、0.5?2.0 eVで観察された光學(xué)吸収ピークは増強(qiáng)した。構(gòu)造変化の起源はWO 6八面體における擬似Jahn?Teller歪みの不安定性と考えられる。光學(xué)ピークは、共存を仮定した異方性プラズマ共鳴とポーラロン勵(lì)起のDrude?Lorentz分析により分析し、Mie積分法によりナノ粒子の系総合不均一効果を結(jié)合して分析した。この過(guò)程は光學(xué)ピークを完全にデコンボリューションさせ、これはポーラロン吸収がVOによる局所電子によるものであることを示している。
