Cs0.33WO3?xFxは重要な近赤外遮蔽材料であり、ゲルゲル法により製造することができる。例えば、一部の専門家はゾル?ゲル法によりタングステン酸、CsCl及びCsFを原料として（Cs/W=0.33）Cs及びF共ドープCs0.33WO3?xFxを製造し、異なるFドープ量が生成物相、形態(tài)及び光學(xué)特性に與える影響を討論した。
詳細(xì)については、
http://cesium-tungsten-bronze.com/japanese/index.html
その結(jié)果、Fドーピング量の増加に伴い、生成物の回折ピークは著しく広がり、生成物は徐々にナノロッド（直徑約30?50 nm、長(zhǎng)さ約數(shù)百ナノメートル）からナノ粒子（直徑約10 nm）に変化することが分かった。F／W＝0.22の場(chǎng)合、Cs0.33WO3?xFxは最適な近赤外遮蔽性能を示す。Tvis max（最大可視光透過率）＝76.3%、T 950 nm（950 nmにおける透過率）＝25.7%、TNIR min（最小近赤外透過率）＝10.5%であった。
