鉬鋁鉬膜層顯影后掉膜問(wèn)題的研究
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鉬鋁鉬膜層為什么在顯影后會(huì)掉膜（手機(jī)觸摸屏功能片顯影刻蝕階段）。 對(duì)于經(jīng)常使用智能手機(jī)的人來(lái)說(shuō)這是一個(gè)一直很難解決的問(wèn)題。
科學(xué)實(shí)驗(yàn)告訴我們，刻蝕階段會(huì)把金屬橋部分的鉬鋁鉬也刻蝕到有多個(gè)原因,主要可能是：1.刻蝕溶液濃度過(guò)大。2.流水線節(jié)拍偏慢，使玻璃在溶液中刻蝕的時(shí)間過(guò)久，導(dǎo)致刻蝕過(guò)度。3.涂膠機(jī)的問(wèn)題，例如涂膠不均勻，光刻膠厚度太薄，以及光刻膠本身質(zhì)量問(wèn)題等。4.曝光過(guò)程掩膜版的問(wèn)題，比如掩膜版的位置放的有偏差，導(dǎo)致需要留光刻膠保護(hù)的金屬橋部分被曝光。
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